在半導(dǎo)體器件制造、電子元件鍍膜、光學(xué)鏡片鍍膜、光學(xué)薄膜器件制造以及其它薄膜類材料改性等領(lǐng)域使用到磁控濺射、真空蒸鍍等設(shè)備。高溫金屬原子在薄膜表面沉積時(shí)需要及時(shí)將薄膜上多余的熱量均勻地帶走。普通冷卻輥溫度不均勻，且冷卻效果欠佳，容易造成薄膜受熱軟化、起皺，影響產(chǎn)品質(zhì)量，嚴(yán)重時(shí)將使得產(chǎn)品不能長時(shí)連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)品的成品率和合格率達(dá)不能合格水平，產(chǎn)品的工藝成本將大幅上升。上海聯(lián)凈均溫?zé)o結(jié)露冷卻輥采用特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，傳熱速率更快，且能夠?qū)⒐ぷ鲄^(qū)域的熱量快速傳遞到兩端，讓輥面溫度始終維持在±1℃以內(nèi)，確保產(chǎn)品一致性良好。

2 磁控濺射

2  磁控濺射+蒸鍍

上述工藝中，冷卻輥的溫度均勻性十分關(guān)鍵。上海聯(lián)凈均溫?zé)o結(jié)露冷卻輥是理想的選擇，目前已廣泛應(yīng)用于此類要求的許多個(gè)關(guān)鍵工序。

均溫?zé)o結(jié)露冷卻輥技術(shù)規(guī)格：

* 直徑：100~2000mm

* 長度：500~2500mm

* 輥筒材質(zhì)：SUS304 或者其它牌號(hào)不銹鋼

* 表面處理：鍍硬鉻，硬度HRC 50~60，粗糙度Ra 0.01~0.05

* 工作溫度：－30℃ ~ 80℃

* 溫度精度：±1℃

注：各項(xiàng)參數(shù)可根據(jù)客戶需要訂制。